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Horno de deposición de vapor químico

Nuestros hornos de deposición de vapor químico cuentan con una gran variedad de aplicaciones en distintos sectores y destacan por su excelente rendimiento, máxima fiabilidad, alta estabilidad, larga vida útil y precios realmente asequibles.

Este horno industrial es el equipo ideal para la fabricación de TiC, SiC, SiO2 y nitruro de silicio (Si3N4) de alta calidad para su aplicación en diferentes tipos de substratos. Este horno eléctrico experimental se ofrece con una temperatura de deposición que oscila entre 100 y 1.800 º C.

Nuestro horno de deposición se distingue por su precisión en la fabricación de dieléctricos, semiconductores y películas metálicas, como SiO2, Si3N4, Si:H amorfo, Si heteromórfico, SiC, W, Ti-Si, GaAs, GaSb, etc.

Este horno eléctrico de altas temperaturas ofrece un excelente rendimiento en diferentes tipos de industria, a saber, producción de maquinaria, metalurgia, óptica y fabricación de semiconductores.

Estructura
1. Este horno de deposición de vapor químico está equipado con una chimenea de vacío de acero inoxidable, un sistema de bombeo turbomolecular, una fuente de alimentación, un sistema de control de temperatura, un transmisor, un dispositivo de asistencia de refrigeración por agua y un sistema de ajuste de presión y de escape independiente.
2. Este horno industrial destaca por su estructura compacta y su excelente diseño que garantizan una operación sencilla y un rápido bombeo de vacío.
3. Nuestros hornos eléctricos están disponibles con un sistema de control manual o con un control automático IPC.
4. Los procesos de bombeo de vacío y de revestido se realizan en un solo ciclo de producción.

Datos técnicos
Características Unidad Modelo
EF-4-18 EF-8-18 EF-12-18 EF-16-18 EF-20-18
Potencia nominal kW 21 30 45 60 75
Voltaje nominal V 380 380 380 380 380
Temperatura máxima °C 1800 1800 1800 1800 1800
Temperatura de funcionamiento °C ≤ 1700 ≤ 1700 ≤ 1700 ≤ 1700 ≤ 1700
Grados de vacío 6.67Pa 6.67Pa 6.67Pa 6.67Pa 6.67Pa
Tamaño de la plataforma En pulgadas Ф4 Ф8 Ф12 Ф16 Ф20
Velocidad de rotación de la plataforma 0-20RPM 0-20RPM 0-20RPM 0-20RPM 0-20RPM
Material de aislamiento térmico Grafito Grafito Grafito Grafito Grafito
Componentes de calentamiento Grafito Grafito Grafito Grafito Grafito
Tasa de aumento de temperatura °C/min ≤ 25 ≤ 25 ≤ 25 ≤ 25 ≤ 25
Precisión de la temperatura °C ±1 ±1 ±1 ±1 ±1
Configuración estándar 1. Medidor de flujo de tres canales: nitrógeno, hidrógeno, metano y argón.
2. Sistema de alarga del circuito de gas (hidrógeno y metano), alarma de altas temperaturas y alarma de escasez de agua.
Opciones 1. Equipo de manipulación para el tubo de gas
2. Cilindro de gas y válvula de reducción de presión
3. Sistema de refrigeración
Aplicaciones
Planta de producción, entrega y visita de los clientes
Equipos de apoyo

Nombres relacionados
CVD Equipment | Vapor Deposition Furnace | Chemical Vapor Deposition

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